Uudised

Mannekeeni vahvlid - sõna "näiv" tähendab "võlts" või "simuleeritud ." näiv vahverite, mida tuntakse ka kui võltsvahveritena, tavaliselt pole mustr...

EPI (Epitaxy) protsess on peamine materjali kasvutehnoloogia pooljuhtide tootmisel . see epitalies on kiht kvaliteetsest ühekristallilisest ränist ...

Substraat on seadme füüsiline alus ja määrab epitaksiaalse kasvu teostatavuse ja kulud . Epitaksiaalne kiht on funktsionaalne südamik ning elektril...

Alates varajastest tasapinnalistest CMOS-protsessidest kuni täiustatud finFetideni kasutatakse p-tüüpi substraate jätkuvalt integreeritud vooluring...

· Substraat on seadme füüsiline alus ja määrab epitaksiaalse kasvu teostatavuse ja kulud.
· Epitaksiaalne kiht on funktsionaalne südamik ning el...

Pooljuhtide tootmises ja materjaliteaduses räni vahvlite kristall orientatsioon<100>, <110>, <111>) on otsustav mõju oma füüsilistele omadustele, k...

Vahvli vedeldamise eesmärk

Miks doping? Millised on dopingu meetodid? Milline on dopingu roll?

Millised on räni vahvlite kristallide orientatsioonid?
Mitu positsiooniserva on?
Kuidas paigutatakse positsiooniserv?
Mis vahe on positsio...

Vahvli hõrenemine on pooljuhtide tootmise peamine samm ja selle peamine eesmärk on täita kiibi jõudluse, pakendamise, soojuse hajumise jms nõudeid ...

Räni (Si) on pooljuhtide tööstuses põhimaterjal ja selle töötlemistehnoloogia on mikroelektroonika ja mikroelektromehaaniliste süsteemide (MEMS) ar...

Räni nitriidi kile kasvu mehhanism LPCVD kasvuvõrrand: PECVD kasvu võrrand on: kahest ülaltoodud joonisest näeme, et: Sih4 annab Si allika ja N2 võ...